「サムスン60％、TSMC 55％」3ナノ収率逆転… サムスンファウンドリ「脱還」スタート
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サムスン電子の3ナノプロセス収率がTSMCを抜いたという分析が提起された。超微細工程の競争力に足を踏み入れ、顧客会社を失ってきたサムスン電子が「反撃」のきっかけを設けることができるという期待感が形成される。
17日、産業界によると、ハイ投資証券は「サムスンファウンドリージョン」という報告書を出して、サムスン電子4ナノプロセスの収率が75％以上、3ナノは60％以上と推定した。TSMCの場合、4ナノ収率が80％程度だ。サムスン電子がほぼ近いレベルまで追いついたのだ。早い時間内に収率をとった秘訣で「半導体の業況不振」が挙げられる。現況不振でテストウェハの投入量を増やすことができ、これは7ナノ未満プロセスの歩留まり改善機会として作用したということだ。
特に3ナノ収率が60%という台木は目を見張る。現在まで知られているTSMCの歩留まりより高いからだ。ITメディアwccfテクニックによると、TSMCはN3（3ナノ）プロセスでアップルA17、M3チップセットを作っている。しかし収率は５５％にとどまるものと観測される。
